国产光刻胶量产验证成功，武汉太紫微T150A分辨率达120nm！

武汉东湖新技术开发区管理委员会（中国光谷）传来振奋人心的消息，光谷企业在半导体专用光刻胶领域取得了重大突破。武汉太紫微光电科技有限公司（简称“太紫微公司”）自主研发的T150 A光刻胶产品，已成功通过半导体工艺量产验证，实现了配方全自主设计，有望改写国内半导体光刻制造的格局。

据中国光谷官方介绍，T150 A光刻胶产品与国际头部企业主流的KrF光刻胶系列相当，尤其在极限分辨率上达到了120nm，相较于国外同系列“妖胶”UV1610，T150 A展现出更大的工艺宽容度、更高的稳定性以及优异的坚膜后烘留膜率，对后道刻蚀工艺更为友好。验证结果显示，T150 A在密集图形刻蚀后，下层介质的侧壁垂直度表现尤为出色。

公开资料显示，太紫微公司成立于2024年5月，是由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立的新兴企业。公司企业负责人朱明强教授，同时也是英国皇家化学会会员，他表示：“从原材料的开发起步，到最终获得具有自主知识产权的配方技术，这只是我们的初步成果。未来，我们的团队还将研发一系列适用于不同场景的KrF与ArF光刻胶，为国内相关产业带来更多创新与突破。”