苏大维格（300331）近日发布的2025年年度报告显示，公司在微纳制造领域持续加大技术投入，全年研发投入达1.87亿元，较上年增长28.97%，占营业收入比重提升至9.17%。过去五年间，公司研发投入复合增长率保持在7.67%的水平，为技术创新提供了坚实支撑。
尽管研发投入显著增加，但研发团队规模略有收缩。报告期内公司研发人员数量为401人，较上年的408人减少1.72%，占总员工比例从20.26%降至17.67%。这一调整或与公司优化研发资源配置、聚焦核心领域有关。
作为国内微纳结构产品制造和技术服务的领军企业，苏大维格已构建起覆盖纳米级和微米级的光刻设备体系。公司自主研发的激光直写光刻机和纳米压印光刻机形成技术平台，支撑了公共安全防伪、消费电子新材料、高端智能装备、反光材料四大事业群的发展。其产品广泛应用于半导体、光伏、新型显示、汽车等多个领域，形成多元化业务布局。
报告期内，公司重点推进激光直写光刻机在高端掩模制造、先进封装领域的应用，同时探索投影扫描光刻设备在光伏铜电镀图形化场景的技术落地。在超精密微纳光学器件方面，虚实融合透明显示、光栅及光栅尺、VR/AR、AR-HUD、光场屏等产品的研发验证与商业化进程取得进展，光子芯片、光通信器件等前沿领域的技术储备持续加强。
财务数据显示，2025年公司实现营业收入20.40亿元，同比增长10.82%；归母净利润亏损1900万元，较上年收窄68.09%；扣非净利润亏损7375.23万元，同比改善21.89%。经营活动产生的现金流量净额为2.14亿元，同比增长4.78%，显示公司经营质量有所提升。
