光刻技术领导者ASML与比利时imec微电子研究中心近日联合宣布，双方已签署一项为期五年的全新战略合作协议。此次合作旨在结合双方在先进半导体工艺及可持续发展领域的深厚知识与专业优势。
根据协议内容，imec主导的后2nm制程节点SoC中试线NanoIC，将引入ASML的一系列尖端设备，其中就包括了High NA EUV光刻机。双方的合作领域还将拓展至硅光子学、存储技术以及先进封装技术。
ASML不仅在技术和设备方面提供支持，还将为imec在探索环境效益和社会效益方面的创新项目提供资金支持。这一举措展现了ASML对社会责任和可持续发展的重视。
ASML的首席执行官Christophe Fouquet对此表示：“这份协议标志着ASML与imec长期合作关系的进一步深化。它体现了我们共同致力于半导体行业解决方案开发的坚定决心，同时也符合我们通过技术创新回馈社会的战略愿景。”
imec的首席执行官Luc Van den Hove同样表达了对合作的积极态度：“我们非常高兴能够继续与ASML保持这种独特且持久的合作关系。三十多年来，我们一直在为行业提供前沿的图案化解决方案。ASML全系列产品的加入，将极大地提升我们中试线的能力，使其更加成熟，为半导体生态系统提供应对AI技术进步挑战的最先进技术。”
Luc Van den Hove还强调：“imec高度重视可持续创新，将这一理念明确纳入我们的合作伙伴关系中，无疑是对我们合作的一个完美补充。”
