任正非低调谈“韬定律”：华为突围之路不争颠覆只求突破
据行业内部人士透露，华为提出的"韬定律"技术方案可能彻底改变芯片制造格局。这项突破性技术通过优化晶体管结构而非单纯追求制程缩微，成功突破了传统摩尔定律的物理极限。特别引人注目的是，该技术方案与现有光刻设备具有良好兼容性——采用DUV光刻机配合韬定律原理制造的5纳米芯片，其性能已可媲美台积电EUV工艺生产的3纳米芯片。
2026-07-24
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2026-07-24
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2026-07-24
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2026-07-24
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2026-07-24
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2026-07-24