铠侠与南亚科技近日宣布,他们将在即将于美国加州旧金山举行的2024 IEEE IEDM国际电子器件大会上,展示一项关于新型内存的联合研究成果。这一成果名为OCTRAM,是一种创新的极低漏电流内存。
据悉,OCTRAM是全球首款4F2 GAA氧化物半导体通道晶体管DRAM,它采用了IGZO垂直通道晶体管,实现了内存能耗的大幅降低。两家公司合作制造的275Mbit容量OCTRAM阵列,在设计的电压范围内运行稳定。
OCTRAM的制造流程经过优化,旨在强化芯片整合架构的发展。这一创新技术有望应用于AI、后5G移动通信系统以及物联网等领域,以满足设备对节能与性能的双重需求。
这一研究成果的发布,标志着铠侠与南亚科技在内存技术领域的又一重大突破。
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